供应,光清洗灯SUV90-43、SUV90-59 QGL90U-32 、、 光清洗的特点: 1、可在空气中进行并且在清洗后不必进行干燥。 2、可彻底清除物体表面的碳和**污染物。 3、无溶剂挥发及废弃溶剂的处理问题。 4、保证产品的高可靠性和高成品率。 5、产品表面清洗处理的均匀度一致。 6、由于光清洗是通过光敏、氧化反应去除物体表面的碳和**化合物,所以容易发生氧化的表面不宜用光清洗方法,只适对表面污垢清洗、不适对污垢量较多,无机类污垢清洗。 常用型 号 功 率w 寿 命H 冷却方式 SUV40US-12 40 5000 水冷,风冷 SUV40US-32 40 5000 水冷,风冷 SUV40US-43 40 5000 水冷,风冷 SUV40DS-81 40 5000 水冷,风冷 SUV40GS-64/65 40 5000 风冷 SUV70US-43 70 5000 水冷,风冷 SUV70DS-81 70 5000 水冷 SUV90US-43 90 5000 水冷,风冷 SUV90USL-48 90 5000 风冷 SUV90USL-51 90 5000 水冷,风冷 SUV90USL-52 90 5000 水冷,风冷 SUV90USL-53 90 5000 水冷,风冷 SUV90US-55 90 5000 水冷,风冷 SUV90US-58 90 5000 水冷,风冷 SUV90US-59 90 5000 水冷,风冷 SUV90DS-81 90 5000 水冷,风冷 SUV90US-88 90 5000 水冷,风冷 MSW-90 90 5000 风冷 SUV110DS-81 110 5000 水冷 SUV110GS-36 110 5000 风冷 SUV110US-42 110 5000 水冷,风冷 SUV110US-43 110 5000 风冷 SUV110US-48 110 5000 水冷,风冷 SUV110US-49 110 5000 水冷,风冷 SUV110US-51 110 5000 风冷 SUV110US-53 110 5000 水冷 SUV110US-59 110 5000 水冷,风冷 SUV110US-68 110 5000 水冷,风冷 SUV110US-94 110 5000 水冷,风冷 SUV110US-99 110 5000 水冷,风冷 SUV110WS-55 110 5000 水冷,风冷 SUV110US-88 110 5000 水冷,风冷 光清洗的技术应用范围: 主要在液晶显示器件、半导体硅晶片、集成电路、高精度印制电路板、光学器件、石英晶体、密封技术、带氧化膜的金属材料等生产过程中采用光清洗方法较为合适。 主要材料:Ito玻璃、光学玻璃、铬板、掩膜板、抛光石英晶体、硅晶片和带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理。 此UV光源在LCD工艺中又具有UV改质(紫外光表面质变)的特点,目前在液晶显示器STN的生产过程中,主要是用在膜处理技术上,对于改善膜与膜之间的密接是非常有效的,如ITO膜与感光胶膜层,TOP涂层与PI涂层等等。另在研究部门又可用来UV改性塑料材料产品,用于纳米技术研究,产品经此UV光照射发生化学反应,使产品表面性质改变。STN-LCD、彩色滤光片及OLED的制作过程中,有些制程设备相当雷同,差别在于制造工艺要求的不同。 随着线路的精细化及产品的彩色比,LCD产业对制造工艺的要求也不断地提升,而有"工欲善其事,必先利其器"之需求,因此只有设备能力不断地精进,才能提高生产的质与效率。